國家知識產權局信息顯示，美光科技公司申請一項名為“用于字線結構形成的雕刻溝槽”的專利，公開號CN121619859A，申請日期為2025年8月雕刻。
專利摘要顯示，本公開涉及一種用于字線結構形成的雕刻溝槽雕刻。本文中所描述的實施方案涉及各種結構、集成組合件和存儲器裝置。在一些實施方案中，一種集成組合件包含具有上部部分和下部部分的有源區(qū)域區(qū)，其中所述下部部分的寬度小于所述上部部分的寬度。所述集成組合件進一步包含水平鄰近于所述下部部分的字線結構。
聲明：市場有風險，投資需謹慎雕刻。本文為AI基于第三方數據生成，僅供參考，不構成個人投資建議。
來源雕刻：市場資訊
