國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局信息顯示，奇匹科技公司申請(qǐng)一項(xiàng)名為“電子器件多轉(zhuǎn)盤清洗裝置”的專利，公開(kāi)號(hào)CN121571411A，申請(qǐng)日期為2026年1月電子。
專利摘要顯示，本發(fā)明公開(kāi)了一種電子器件多轉(zhuǎn)盤清洗裝置，包括進(jìn)料傳送帶、出料傳送帶和清洗單元，所述進(jìn)料傳送帶和清洗單元之間設(shè)置有進(jìn)料緩沖單元，所述出料傳送帶和清洗單元之間設(shè)置有出料緩沖單元；所述清洗單元包括基座和設(shè)置在基座上的電機(jī)，所述基座上設(shè)置有清潔罩，所述清潔罩在基座上形成密閉的清洗倉(cāng)，所述電機(jī)的輸出轉(zhuǎn)軸豎直向上伸出，并連接有至少兩個(gè)轉(zhuǎn)盤電子。本發(fā)明中，通過(guò)設(shè)置進(jìn)料緩沖單元和出料緩沖單元，可以大大加快電子器件或載具進(jìn)出清洗倉(cāng)的轉(zhuǎn)運(yùn)速度，從而提高清洗效率；通過(guò)設(shè)置不少于兩個(gè)轉(zhuǎn)盤，可以在清洗位的數(shù)量不變的情況下大大減少電機(jī)的負(fù)載重量，或者在電機(jī)負(fù)載重量不變的情況下大大增加清洗位的數(shù)量，從而進(jìn)一步提升效率。
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